ASML ha entregado a Intel su primera máquina de litografía UVE de alta apertura, Twinscan EXE:5200. Esta máquina es crucial para que Intel cumpla su itinerario y tenga listo su nodo litográfico 18A. Además, esta máquina tiene un papel estratégico en la competencia entre Estados Unidos y China en el desarrollo de circuitos integrados. Los equipos de litografía UVE de alta apertura permiten producir chips más allá de los 3 nm, gracias a una arquitectura óptica avanzada con una apertura de 0,55. ASML también ha mejorado los sistemas mecánicos para aumentar la producción a más de 200 obleas por hora. Esta máquina de ASML supera a cualquier otra en el mercado y es un avance significativo en la industria de los semiconductores.
