ASML, la compañía neerlandesa, domina la fabricación de semiconductores de vanguardia gracias a sus máquinas de ultravioleta extremo (UVE). Estas son esenciales para producir circuitos integrados de 7 nm o menos. Canon y Nikon, sus principales competidores, abandonaron el desarrollo de equipos UVE debido a los altos costos de investigación. Sin embargo, Canon podría competir con ASML a medio plazo con su equipo de litografía de nanoimpresión (NIL), que promete fabricar chips de hasta 2 nm a un costo significativamente menor.
Japón también está explorando nuevas tecnologías para recuperar su liderazgo en la industria de fotolitografía. Un grupo de científicos de la Organización para la Investigación en Física de Altas Energías con Aceleradores de Tsukuba está trabajando en una idea revolucionaria: reemplazar la fuente de luz ultravioleta de ASML con un láser de electrones libres (FEL). Este láser, generado por un acelerador lineal de recuperación de energía, podría fabricar circuitos integrados con una resolución similar a la de la luz ultravioleta.
Los científicos japoneses aseguran que su solución es más económica, ya que un solo acelerador puede alimentar varias máquinas de litografía simultáneamente. Sin embargo, el costo inicial de un acelerador de recuperación de energía es alto, y su tamaño plantea desafíos para su integración en plantas de fabricación de chips convencionales. A pesar de estas dificultades, la propuesta japonesa es prometedora y merece ser seguida de cerca.
Imagen: KEK
