Japón busca recuperar su posición como líder en la fabricación de equipos de litografía, un sector donde ha sido superado por la empresa neerlandesa ASML. Canon y Nikon, junto a Tokyo Electron, son las principales competidoras en este ámbito. A pesar de haber perdido la carrera por desarrollar el primer equipo de litografía de ultravioleta extremo (UVE), Japón no se rinde.
Canon se presenta como la única compañía con potencial para competir con ASML a medio plazo. Su equipo de litografía de nanoimpresión (NIL) es su mejor carta, permitiendo la fabricación de chips de hasta 2 nm a un coste significativamente menor. Mientras que una máquina UVE de última generación de ASML cuesta alrededor de 350 millones de euros, el equipo de Canon se sitúa en 14 millones de euros.
La nueva tecnología litográfica desarrollada en Japón promete ser más eficiente y económica. A diferencia de la litografía UVE, que requiere un sistema óptico complejo, la litografía NIL simplifica el proceso, aunque es más lenta debido a sus múltiples pasos secuenciales. Además, un equipo de científicos del Instituto de Ciencia y Tecnología de Okinawa ha creado una tecnología UVE que, según sus afirmaciones, puede competir con ASML en términos de coste y eficiencia energética.
El profesor Tsumoru Shintake, líder del proyecto, destaca que su sistema óptico utiliza solo dos espejos, en comparación con los diez de ASML. Esto reduce la pérdida de energía y la necesidad de fuentes de radiación ultravioleta potentes, lo que podría resultar en un ahorro significativo en el consumo energético. Sin embargo, es importante señalar que esta tecnología aún está en fase de laboratorio y no se ha probado en condiciones reales.
En resumen, Japón está decidido a recuperar su liderazgo en el sector de la litografía, con innovaciones que podrían cambiar el panorama actual. Aunque los avances son prometedores, la validación práctica de estas tecnologías será crucial para determinar su viabilidad en el mercado.
Imagen: ASML
