La llegada del primer equipo de litografía de ultravioleta extremo (UVE) y alta apertura (High-NA) a la planta de Intel en Hillsboro (EEUU) ha sido todo un acontecimiento. Intel ha publicado un vídeo en su cuenta de YouTube en el que nos enseña con todo lujo de detalles cómo resolvieron sus ingenieros su transporte desde el avión hasta la fábrica de Intel, y después cómo instalaron el equipo en su lugar. Intel es el primer gran fabricante de semiconductores que ha apostado por los equipos de litografía UVE de alta apertura de ASML. Samsung por el momento no se ha manifestado oficialmente, y numerosas voces fiables se han alzado en Asia para prever que TSMC aún tardará en instalar las máquinas de alta apertura en sus plantas de vanguardia. Intel, sin embargo, planea iniciar la fabricación de chips en su nodo 18A empleando el equipo de litografía UVE High-NA en 2026.
Imagen: ASML
