Canon ha desarrollado un equipo de litografía de nanoimpresión (NIL) capaz de competir con las máquinas UVE de ASML. La litografía NIL permite transferir el patrón a la oblea sin la necesidad de un sistema óptico complejo. Los equipos de Canon pueden fabricar chips de hasta 2 nm, a un costo diez veces menor que las máquinas UVE de ASML. SK Hynix ya ha mostrado interés en esta tecnología para producir chips NAND flash.
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