ASML ha enviado su primer equipo de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE) de segunda generación a Intel. El Twinscan EXE:5000, una máquina High-NA, supera a cualquier otra solución disponible en el mercado. Intel se convierte en el primer fabricante en tener acceso a esta herramienta clave para su posición en el mercado de los semiconductores. La tecnología EUV High-NA permite obtener chips más allá de los 3 nanómetros. Este avance tiene un impacto directo en la guerra de los chips, ralentizando el desarrollo de los semiconductores de China. ASML ha sido clave en el desarrollo de esta tecnología, pero las máquinas UVE no pueden llegar a China debido a las medidas tomadas por Estados Unidos. China se encuentra en una situación complicada en la guerra de los chips, ya que está intentando ponerse al día con su propia tecnología de fabricación de semiconductores.
